Китай приступает к серийному производству иммерсионных литографических установок с техпроцессом до 7 нм

Согласно данным издания The Information, Китай приступил к серийному производству установок для иммерсионной литографии, способных выпускать чипы по техпроцессу до 7 нм. 🚀Прогнозируется, что до конца 2026 года будет произведено около пяти таких литографов. В дальнейшем, в 2027 году, объемы производства значительно возрастут, достигнув сборки 20 устройств. Данное событие происходит на фоне действующих с весны 2019 года санкций США в отношении китайской полупроводниковой отрасли. В настоящее время США также запрещают компании ASML осуществлять обслуживание и ремонт литографов, ранее проданных в Китай. 🧐На представленном изображении показан литограф ASML TWINSCAN EXE:5000. В 2025 году его сборка потребовала усилий 250 инженеров на протяжении шести месяцев, а общий вес установки составил 150 тонн. 🏗️